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薄膜沉积

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超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

关键词：

超高真空技术

高能脉冲磁控溅射

PVD镀膜设备

PSD镀膜设备

薄膜沉积

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备配置一套独立工艺炉管，工艺气体分别配置SiH4/NH3/N2O/N2/Ar，通过真空泵获得低压来实现氮化硅、氧化硅、多晶硅膜层的沉积。 设备主要应用于科研院校、高校、工矿企业等实验和小批量生产。

关键词：

LPCVD设备

CVD化学气相沉积设备

薄膜沉积

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落幕不散场，聚力向未来|鹏城半导体圆满收官2026年第二届玻璃基板与光电融合技术峰会

落幕不散场，聚力向未来|鹏城半导体圆满收官2026年第二届玻璃基板与光电融合技术峰会

为期两天的“2026年第二届玻璃基板与光电融合技术峰会——从TGV工艺到CPO集成”已在东莞顺利落下帷幕。

关键词：

TGV技术

玻璃通孔（TGV）技术

CPO（光电共封装）

玻璃基板与光电融合技术

生产型高真空磁控溅射

物理气相沉积 PVD

薄膜沉积

磁控溅射镀膜设备

鹏城半导体邀您参加第十九届中国科学仪器发展年会

鹏城半导体邀您参加第十九届中国科学仪器发展年会

科技赋能产业，智领仪器革新。由仪器信息网、中关村科学城管理委员会主办的第十九届中国科学仪器发展年会（ACCSI 2026）即将于2026年4月22-24日在北京隆重启幕

关键词：

中国科学仪器发展年会

磁控溅射镀膜设备

生产型高真空磁控溅射

PECVD

HFCVD

薄膜沉积

镀膜设备

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