产品中心
LOGO
PRODUCTS CENTER
产品中心

薄膜沉积

关键词：

产品 新闻
超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

关键词：

超高真空技术

高能脉冲磁控溅射

PVD镀膜设备

PSD镀膜设备

薄膜沉积

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备配置一套独立工艺炉管，工艺气体分别配置SiH4/NH3/N2O/N2/Ar，通过真空泵获得低压来实现氮化硅、氧化硅、多晶硅膜层的沉积。 设备主要应用于科研院校、高校、工矿企业等实验和小批量生产。

关键词：

LPCVD设备

CVD化学气相沉积设备

薄膜沉积

< 1 > 前往 页