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薄膜沉积

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超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

关键词：

超高真空技术

高能脉冲磁控溅射

PVD镀膜设备

PSD镀膜设备

薄膜沉积

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200

LPCVD设备配置一套独立工艺炉管，工艺气体分别配置SiH4/NH3/N2O/N2/Ar，通过真空泵获得低压来实现氮化硅、氧化硅、多晶硅膜层的沉积。 设备主要应用于科研院校、高校、工矿企业等实验和小批量生产。

关键词：

LPCVD设备

CVD化学气相沉积设备

薄膜沉积

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鹏城半导体邀您参加2026第八届真空科技交流会议暨展览会

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鹏城半导体邀您参加2026第八届真空科技交流会议暨展览会（深圳）

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2026第八届真空科技交流会议暨展览会

2026第八届真空科技交流会议暨展览会（深圳）

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高真空镀膜机

磁控溅射镀膜

物理气相沉积（PVD）

CVD镀膜设备

氮化镓（GaN）

大尺寸金刚石薄膜

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超高真空高能脉冲磁控溅射

喜迎国庆|鹏城半导体致以节日问候

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鹏城半导体恭贺国庆华诞，愿国泰民安，祝全体伙伴国庆喜乐！

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国庆节

十一国庆

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中华人民共和国成立77周年

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PVD（物理气相沉积）

CVD化学气相沉积设备

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高真空镀膜机

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光学真空镀膜

月满中秋，鹏城半导体恭祝佳节

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鹏城半导体祝各位伙伴中秋节快乐！

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中秋节

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物理气相沉积（PVD）

化学气相沉积

HFCVD

台风资讯|HFCVD——大尺寸金刚石薄膜沉积

台风资讯|HFCVD——大尺寸金刚石薄膜沉积

大尺寸金刚石薄膜是实现规模化工业应用的关键，而HFCVD热丝化学气相沉积技术，正是目前制备大尺寸金刚石薄膜最主流、最高效的工业化方案。

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台风

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