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高能脉冲磁控溅射

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超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备(HITSemi-UHV-HIPIMS)


超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备,是在超洁净环境下,采用纳米及原子级制造技术,生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一:GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

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高能脉冲磁控溅射镀膜,半导体纳米世界的国产密码


你知道吗?1纳米=10-9米,相当于头发丝直径的万分之一。我们每天用的手机、电脑、5G设备,其核心芯片里,藏着一个比头发丝直径万分之一还小的“纳米世界”——先进制程半导体世界。其芯片内部的绝缘层、阻挡层、导电膜,都需要在纳米级精度下“生长”——这就是高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)镀膜技术的舞台。

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