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PVD镀膜设备

产品 新闻

生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机


生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机( PVD-1000S系列 ) 该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备,集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

科研型 高真空磁控溅射镀膜机


科研型 高真空磁控溅射镀膜机 Circular Sputter系列是我司科研类及中试类高真空磁控溅射仪,其主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。

高真空电子束蒸发镀膜机


高真空电子束蒸发镀膜机(PVD镀膜设备)是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。

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磁控溅射技术在医疗影像关键器件核心薄膜制备中的应用


在现代医疗影像技术的持续演进中,磁控溅射技术已成为薄膜制备领域的核心工艺,广泛应用于医疗影像关键器件的制造过程。

生产型 TGV/TSV/TMV


生产型 TGV/TSV 高真空磁控溅射镀膜机该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的镀膜,深径比>10:1。例如:用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构,Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力,为微系统集成密度提升提供支撑。

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