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磁控溅射

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生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机


生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机(PVD-1000B系列)该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法,在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

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TGV玻璃通孔技术取得重要突破,应用前景持续拓展


近日,TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)技术在材料加工与微纳制造领域取得显著进展,引发半导体、先进封装及新兴电子器件行业的高度关注。凭借其优异的电学性能、高频特性及三维集成能力,TGV正成为下一代高密度互连关键技术之一。

TGV玻璃通孔技术在磁控溅射中的应用


TGV玻璃通孔技术作为一种先进的微纳加工手段,在磁控溅射领域展现出了巨大的应用潜力。该技术通过在玻璃基板上精确制作通孔,不仅实现了三维电路的垂直互连,还极大地提升了电子器件的集成度与性能。

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