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TGV玻璃通孔技术在磁控溅射中的应用

发布时间：

2026-01-05

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TGV玻璃通孔技术作为一种先进的微纳加工手段，在磁控溅射领域展现出了巨大的应用潜力。该技术通过在玻璃基板上精确制作通孔，不仅实现了三维电路的垂直互连，还极大地提升了电子器件的集成度与性能。

TGV玻璃通孔技术作为一种先进的微纳加工手段，在磁控溅射领域展现出了巨大的应用潜力。该技术通过在玻璃基板上精确制作通孔，不仅实现了三维电路的垂直互连，还极大地提升了电子器件的集成度与性能。在磁控溅射过程中，TGV玻璃通孔作为导电通道，能够引导溅射粒子精准沉积于指定区域，形成高质量、高精度的薄膜层。这一特性使得TGV玻璃通孔技术在制备高性能传感器、微电子机械系统（MEMS）以及先进光学元件等方面具有显著优势。此外，该技术还具备良好的热稳定性和化学稳定性，能够在恶劣环境下保持长期可靠运行，进一步拓宽了磁控溅射技术的应用范围。随着微电子技术的不断发展，TGV玻璃通孔技术与磁控溅射的结合将更加紧密，有望在集成电路封装、5G通信、物联网等前沿领域发挥重要作用，推动相关产业向更高层次迈进。

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物理气相沉积技术（PVD）原理、分类及应用

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