首页
关于我们
公司简介
发展历程
技术专利
质量体系
资质荣誉
产品中心
光电倍增器相关设备
生产型 高真空磁控溅射镀膜机
PVD 物理气相沉积设备
CVD 化学气相沉积设备
等离子刻蚀设备
MBE 分子束外延设备
金刚石散热晶圆片
团簇式多功能复合气相沉积设备
真空专用电源
各种镀膜机零部件
新闻中心
公司新闻
行业动态
视频中心
视频展示
媒体报道
技术支持
售后服务
实验室与研发中心
资料下载
联系我们
人才招聘
在线留言
城市分站
PVD设备
关键词:
磁控溅射技术在医疗影像关键器件核心薄膜制备中的应用
在现代医疗影像技术的持续演进中,磁控溅射技术已成为薄膜制备领域的核心工艺,广泛应用于医疗影像关键器件的制造过程。
磁控溅射技术
PVD镀膜设备
薄膜制备
最新产品
总程系统
MAMS电子清刷系统
EB 等离子辅助沉积设备
LP-1200K 水平真空管式炉
LP-1200L 系列三温区管式炉
RF160 等离子体清洗机
VF450 派瑞林真空薄膜涂层设备
W-100可燃尾气处理装置
高频高真空金属陶瓷封接设备
高真空超洁净气氛炉
最新新闻
鹏城半导体引领未来:TGV及TSV技术爆发式增长在即
鹏城半导体磁控溅射技术实现新突破,助力高端真空镀膜设备国产化
物理气相沉积技术(PVD)原理、分类及应用
TGV玻璃通孔技术取得重要突破,应用前景持续拓展
TGV玻璃通孔技术在磁控溅射中的应用