热丝化学气相沉积（HFCVD）金刚石涂层设备厂家《地震资讯》
金刚石作为超宽带隙半导体材料，具有高载流子迁移率、高热导率、高击穿电场、高载流子饱和速率和低介电常数等优异物理特性，被认为是制备下一代高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件的“终极半导体”。
2024/07/22
磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种先进的表面处理设备，它具有高效的特点。通过利用磁场控制离子束的运动轨迹，实现对材料表面的溅射附着，从而获得高质量的薄膜涂层。磁控溅射镀膜仪的主要作用是在不同材料表面形成均匀、致密且具有良好附着力的薄膜层，以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。同时，它也可以用于改变材料的光学性能、电学性能和导热性能等，满足不同领域的需求。
2024/07/17
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金刚石是一种典型的多功能极限材料，在电学、光学、热学、力学声学和电化学方面具有优异性能，在众多高新技术领域具有广阔的应用前景。
2024/07/09
在快速发展的半导体技术领域，物理气相沉积（PVD）是实现薄膜沉积工艺精度和效率的关键工具。让我们一起来了解PVD技术在半导体行业中的先进应用。
2024/07/04
CVD金刚石薄膜技术由于其出色的性能和广泛的应用前景，已经被应用到了许多领域。未来，随着技术的进步和性能的不断优化，CVD金刚石薄膜在以下领域有着更广阔的应用前景：
2024/04/22
2024年，全球PVD真空镀膜设备行业的总规模约为22亿美元，而且预计到2024年，这一数字将会翻倍，达到47亿美元。PVD真空镀膜技术由非金属物质以真空温度和带电离子碰撞技术，形成厚膜，具有聚合度高、粘着力强、透明度高及耐腐蚀性好等优点。
2024/03/04
真空镀膜是表面处理技术的一项分支，是指为了减少杂质的干扰，在高度真空环境下，通过物理或化学手段，将金属、非金属或化合物材料（膜材）转换成气态或等离子态，并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质（简称基材、基板或基片）表面形成薄膜的过程。
2024/02/28
化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备，满足客户多种制造工艺需求。
2024/01/29
所谓溅射就是用荷能粒子(通常用惰性气体的正离子)去轰击固体(以下称靶材)表面，从而引起靶材表面上的原子(或分子)从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫(Grove)于1842年在实验研究阴极腐蚀问题时，阴极材料被迁移到真空管壁上而发现的。利用这种溅射方法在基体上沉积薄膜是1877年问世的。但是，利用这种方法沂积薄膜的初期存在着溅射速率低，成膜速度慢，并且必须在装置上设置高压和通人惰性气体等一系列问题。因此，发展缓慢险些被淘汰。只是在化学活性强的贵金属难熔金属、介质以及化合物等材料上得到了少量的应用。
2023/03/15
离子镀膜设备起源于20世纪50年代D.M.Maiox提出的理论，且在当时开始有了对应的实验;直到1971年，Chamber等发表电子束离子镀膜技术;而反应蒸镀(ARE)技术则是在1972年的Bunshah报告所指出，此时产生了TC及TN等超硬质的薄膜类型;同样是在1972年，Smith和Moley在镀膜工艺中采用了空心阴极技术。到了20世纪80年代，我国离子镀终于达到工业应用的水准，相继出现了真空多弧离子镀及电弧放电型离子镀等镀膜工艺。
2023/02/13
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