在快速发展的半导体技术领域，物理气相沉积（PVD）是实现薄膜沉积工艺精度和效率的关键工具。让我们一起来了解PVD技术在半导体行业中的先进应用。
2024/07/04
CVD金刚石薄膜技术由于其出色的性能和广泛的应用前景，已经被应用到了许多领域。未来，随着技术的进步和性能的不断优化，CVD金刚石薄膜在以下领域有着更广阔的应用前景：
2024/04/22
2024年，全球PVD真空镀膜设备行业的总规模约为22亿美元，而且预计到2024年，这一数字将会翻倍，达到47亿美元。PVD真空镀膜技术由非金属物质以真空温度和带电离子碰撞技术，形成厚膜，具有聚合度高、粘着力强、透明度高及耐腐蚀性好等优点。
2024/03/04
真空镀膜是表面处理技术的一项分支，是指为了减少杂质的干扰，在高度真空环境下，通过物理或化学手段，将金属、非金属或化合物材料（膜材）转换成气态或等离子态，并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质（简称基材、基板或基片）表面形成薄膜的过程。
2024/02/28
化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备，满足客户多种制造工艺需求。
2024/01/29
所谓溅射就是用荷能粒子(通常用惰性气体的正离子)去轰击固体(以下称靶材)表面，从而引起靶材表面上的原子(或分子)从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫(Grove)于1842年在实验研究阴极腐蚀问题时，阴极材料被迁移到真空管壁上而发现的。利用这种溅射方法在基体上沉积薄膜是1877年问世的。但是，利用这种方法沂积薄膜的初期存在着溅射速率低，成膜速度慢，并且必须在装置上设置高压和通人惰性气体等一系列问题。因此，发展缓慢险些被淘汰。只是在化学活性强的贵金属难熔金属、介质以及化合物等材料上得到了少量的应用。
2023/03/15
离子镀膜设备起源于20世纪50年代D.M.Maiox提出的理论，且在当时开始有了对应的实验;直到1971年，Chamber等发表电子束离子镀膜技术;而反应蒸镀(ARE)技术则是在1972年的Bunshah报告所指出，此时产生了TC及TN等超硬质的薄膜类型;同样是在1972年，Smith和Moley在镀膜工艺中采用了空心阴极技术。到了20世纪80年代，我国离子镀终于达到工业应用的水准，相继出现了真空多弧离子镀及电弧放电型离子镀等镀膜工艺。
2023/02/13
作为聚焦于微纳材料（含半导体材料）、微纳制造工艺、微纳装备的研发设计和生产制造的供应商-鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体），借助中国材料大会这个展示创新技术产品及应用的平台，鹏城半导体将展出其精心研发的HFCVD热丝化学气相沉积系统解决方案、科研/生产型磁控溅射（PVD真空镀膜）解决方案、分子束外延薄膜生长设备MBE、PECVD等离子体增强化学气相沉积解决方案等。热切期待国内外嘉宾莅临广州白云国际会议中心一期2F62展位，共同探索材料设计制备发展新路径，共谋行业新机遇，携手书写产业高质量发展的崭新篇章。
2024/07/03
鹏城半导体邀请您参加6月26-28日，SEMI-e 2024深圳国际半导体展齐聚深圳国际会展中心（宝安）
SEMl-e2024第六届深圳国际半导体展将于6月26-28日在深圳国际会展中心（宝安）盛大开幕。作为半导体领域颇具影响力和代表性的行业盛会，本届展会将汇聚800多家展商集中展示芯片设计、晶圆制造与封装、半导体专用设备与零部件、先进材料、第三代半导体/IGBT，汽车半导体为主的半导体产业链，构建半导体产业交流融合的新生态。
2024/06/17
邀请函|2024全国先进涂层与薄膜技术应用发展大会（6.18-19苏州）
鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于市场前沿、产业前沿和技术前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。
2024/06/11
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