喜报！热烈祝贺鹏城半导体获得国家发明专利证书
发布时间：
2024-12-16
热烈祝贺鹏城半导体《一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统》发明专利获得国家知识产权局授权，并于2024年12月10日获得国家发明专利证书。
热烈祝贺鹏城半导体《一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统》发明专利获得国家知识产权局授权，并于2024年12月10日获得国家发明专利证书。
在科技创新的浪潮中，鹏城半导体再次以卓越的研发实力和深厚的技术积累，赢得了国家发明专利证书的殊荣。
这一里程碑式的成就不仅是对鹏城半导体技术创新实力的有力证明，更是其在半导体领域深耕细作、持续探索的璀璨结晶。插板阀及立式双室热丝CVD系统的发明专利，不仅意味着鹏城半导体在高端设备制造技术上实现了重大突破，还预示着公司在提升半导体材料制备效率与质量方面迈出了坚实的一步。此专利的获得，将为公司进一步拓展国内外市场、深化与产业链上下游企业的合作奠定坚实基础，同时也为我国半导体产业的自主可控和高质量发展贡献了宝贵力量。鹏城半导体将继续秉承创新精神，致力于更多核心技术的研发与突破，为推动中国半导体行业的蓬勃发展贡献力量。
新闻中心
生产型 TGV/TSV 高真空磁控溅射镀膜机该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的镀膜，深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升提供支撑。
热烈祝贺鹏城半导体《一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统》发明专利获得国家知识产权局授权，并于2024年12月10日获得国家发明专利证书。
真空镀膜机是一种先进的表面处理技术设备，它能够在各种材料表面形成一层或多层薄膜，赋予基材新的性能，如提高耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等。真空镀膜机的工作原理主要基于物理气相沉积(PVD）技术，涉及真空技术、热蒸发、溅射等多种物理过程。
2024 年 10 月 22 日，由今日半导体主办的 2024 全国第三代半导体大会在苏州纳米城隆重开幕。此次大会吸引了众多行业精英和企业代表，现场气氛热烈，盛况空前。作为行业领军者的鹏城半导体也携PVD镀膜设备、HFCVD 热丝化学气相沉积设备、分子束外延MBE、等离子体增强化学气相沉积 PECVD设备及解决方案亮相本次大会，吸引了来自全国各地业内人士及行业专家的目光，成为会议的一大亮点。
在金秋十月的武汉，一场汇聚全国乃至全球新材料领域顶尖智慧的盛会——第五届中国新材料产业发展大会即将拉开帷幕。此次大会于2024年10月16日至18日在湖北省武汉市经开区中国车谷国际体育文化交流中心隆重举行，由中国材料研究学会主办，吸引了众多新材料产业界的佼佼者参与。其中，鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称“鹏城半导体”）作为行业内的佼佼者，将亮相大会，展示其在半导体领域的最新成果与技术创新。
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