新闻中心
logo

公司新闻

行业资讯

真空镀膜机设备原理

发布时间：

2024-11-28

微博 微信 朋友圈 QQ QQ空间 复制链接
真空镀膜机是一种先进的表面处理技术设备，它能够在各种材料表面形成一层或多层薄膜，赋予基材新的性能，如提高耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等。真空镀膜机的工作原理主要基于物理气相沉积(PVD）技术，涉及真空技术、热蒸发、溅射等多种物理过程。

真空镀膜机是一种先进的表面处理技术设备，它能够在各种材料表面形成一层或多层薄膜，赋予基材新的性能，如提高耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等。真空镀膜机的工作原理主要基于物理气相沉积(PVD）技术，涉及真空技术、热蒸发、溅射等多种物理过程。

在这些过程中，真空镀膜机的工作原理可以概括为以下几个关键步骤：

一、真空环境的创建：膜体材料（如金属、合金、化合物等）通过加热蒸发或溅射的方式被释放出来，然后在真空室内自由飞行，并最终沉积在基材表面。这一步骤至关重要，因为空气分子会对蒸发的膜体分子产生碰撞，导致结晶体粗糙无光。高真空环境可以显著减少这种碰撞，使结晶体细密光亮。

二、膜体材料的释放：在真空环境中，膜体材料通过加热蒸发或溅射的方式被释放出来。

蒸发过程：加热蒸发源，使膜体材料蒸发成气态分子。溅射过程：利用高能粒子（如离子）轰击靶材，使靶材原子或分子被溅射出来。

三、分子的沉积：蒸发或溅射出的膜体分子在真空室内自由飞行，并最终沉积在基材表面。在沉积过程中，分子会经历吸附、扩散、凝结等阶段，最终形成—层或多层薄膜。

四、镀膜完成后的冷却：镀膜完成后，需要对真空镀膜机进行冷却，使薄膜在基材上固化。这—过程有助于增强薄膜与基材的结合力，提高薄膜的稳定性和耐久性。

磁控溅射技术可以显著提高溅射效率和薄膜质量。它利用磁场控制溅射出的靶材原子或分子的运动轨迹，使其更均匀地沉积在基材表面。

真空镀膜机具有多种类型，如蒸发镀膜机、溅射镀膜机、离子镀膜机等，每种类型都有其独特的特点和适用范围。例如，蒸发镀膜机适用于镀制金属膜和合金膜;溅射镀膜机则适用于镀制高硬度、高耐磨性的薄膜;离子镀膜机则可以在基材表面形成一层具有特殊性的薄膜。

真空镀膜技术在工业生产中具有广泛的应用价值。它可以为各种工业产品提供优质的表面处理技术，提高产品的耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等。同时，真空镀膜技术还可以为光学器件、电子器件等提供高质量的保护膜和反射膜，从而延长产品的使用寿命和提高产品的性能。

综上所述，真空镀膜机的工作原理涉及多个复杂的物理过程和技术环节。通过精确控制这些过程，可以实现高质量、高效率的镀膜生产，为各种工业应用提供先进的表面处理技术。

设备制造商-鹏城半导体技术（深圳）有限公司

 

新闻中心

薄膜沉积设备

薄膜沉积设备分类薄膜沉积是指在硅片等衬底上沉积待处理的薄膜材料，所沉积薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属，沉积膜可为无定形、多晶的或者单晶。

展会邀请|鹏城半导体诚邀您参加第七届全球半导体产业（重庆）博览会

第七届全球半导体产业（重庆）博览会将于2025年5月8日-10日在重庆国际博览中心举办，此次博览会以“新时代·创造芯未来”为主题，展示面积达40000㎡，参展企业800家，吸引35000名专业观众到场参观交流。

鹏城半导体荣膺国家高新技术企业，引领纳米与原子制造技术新征程

在科技飞速发展的当下，半导体行业作为现代信息技术的基石，正不断推动着各个领域的创新与变革。近日，鹏城半导体技术（深圳）有限公司凭借其卓越的技术创新能力和在半导体领域的突出贡献，成功获得国家高新技术企业认定。这一殊荣不仅是对鹏城半导体过往努力的高度认可，更标志着其在纳米与原子制造技术领域的领先地位得到了权威认证。

半导体制造及先进封装持续升温

得益于政策的有力支持、行业周期性的变化、创新驱动的增长以及国产替代的加速推进，从IC设计到晶圆制造、封装测试，再到设备材料等多个细分领域，国产化率实现了显著提升，标志着我国半导体产业正朝着自主可控的方向稳步迈进。

鹏城半导体携TGV/TSV/TMV技术亮相慕尼黑上海光博会

慕尼黑上海光博会，堪称亚洲激光、光学、光电行业的年度盛会。自 2006 年首次在上海举办以来 ，其规模与影响力与日俱增，已然成为全球光电行业的重要交流平台。 慕尼黑上海光博会将于2025年3月20-22日在上海新国际博览中心（上海市浦东新区龙阳路2345号）举办，届时鹏城半导体将携前沿薄膜沉积设备及技术解决方案在E4馆4631亮相。基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术，用于高质量的薄膜制备。例如，用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备，将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。展品涵盖微纳光学、声学、医疗领域等热门应用领域，本次慕尼黑上海光博会给大家带来前沿技术及产品亮相，诚邀各位新老客户拨冗莅临展位洽谈交流！