新闻中心
logo

公司新闻

行业资讯

磁控溅射镀膜仪的用途与注意事项

发布时间：

2024-07-29

微博 微信 朋友圈 QQ QQ空间 复制链接
磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种常见的表面镀膜设备，是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等，适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜，可镀制磁性材料和非磁性材料。广泛应用于电子、光电、光学、医疗等行业。为了确保其正常使用并获得良好的镀膜效果，以下是使用磁控溅射镀膜仪时需要注意的一些细节和技巧。

　　磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种常见的表面镀膜设备，是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等，适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜，可镀制磁性材料和非磁性材料。广泛应用于电子、光电、光学、医疗等行业。为了确保其正常使用并获得良好的镀膜效果，以下是使用磁控溅射镀膜仪时需要注意的一些细节和技巧。

　　正确安装和调试磁控溅射镀膜仪是确保其正常运行的重要步骤。在安装过程中，需要确保设备稳定，避免震动和受力过大。在调试时，必须按照操作手册的要求进行操作，调整参数和关键部件，以保证设备能够达到预期的性能指标。
　　磁控溅射镀膜仪的真空系统在使用前需要充分抽真空，并保持良好的密封状态。真空系统的抽真空过程需要持续一段时间，通常需要几个小时甚至更长时间。在真空抽取完成后，应当对真空系统进行密封性测试，确保没有明显的漏气现象。
　　对于镀膜材料的选择和准备也非常重要。在选择镀膜材料时，需要考虑到要镀膜的物体的特性和要求，并选择合适的材料。在准备材料过程中，需要确保材料纯度高、颗粒细致均匀，并进行必要的清洗处理，以确保材料的质量和纯净度。
　　在操作磁控溅射镀膜仪时，注意以下几点。要避免器件过热和过载。根据镀膜材料的特性和要求，合理调节功率、电流和工作时间等参数，以避免过热导致材料熔化或设备损坏。要遵循操作规程，正确使用镀膜工艺和程序，确保镀膜层的均匀性和一致性。

　　定期检查和维护磁控溅射镀膜仪也非常重要。定期检查设备的各个部件和关键参数，及时发现和解决问题，以保证设备的稳定性和可靠性。同时，做好设备的清洁工作，保持设备干净整洁，避免杂质和污染物对镀膜效果的影响。

　　设备制造商-鹏城半导体技术（深圳）有限公司

新闻中心

薄膜沉积设备

薄膜沉积设备分类薄膜沉积是指在硅片等衬底上沉积待处理的薄膜材料，所沉积薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属，沉积膜可为无定形、多晶的或者单晶。

展会邀请|鹏城半导体诚邀您参加第七届全球半导体产业（重庆）博览会

第七届全球半导体产业（重庆）博览会将于2025年5月8日-10日在重庆国际博览中心举办，此次博览会以“新时代·创造芯未来”为主题，展示面积达40000㎡，参展企业800家，吸引35000名专业观众到场参观交流。

鹏城半导体荣膺国家高新技术企业，引领纳米与原子制造技术新征程

在科技飞速发展的当下，半导体行业作为现代信息技术的基石，正不断推动着各个领域的创新与变革。近日，鹏城半导体技术（深圳）有限公司凭借其卓越的技术创新能力和在半导体领域的突出贡献，成功获得国家高新技术企业认定。这一殊荣不仅是对鹏城半导体过往努力的高度认可，更标志着其在纳米与原子制造技术领域的领先地位得到了权威认证。

半导体制造及先进封装持续升温

得益于政策的有力支持、行业周期性的变化、创新驱动的增长以及国产替代的加速推进，从IC设计到晶圆制造、封装测试，再到设备材料等多个细分领域，国产化率实现了显著提升，标志着我国半导体产业正朝着自主可控的方向稳步迈进。

鹏城半导体携TGV/TSV/TMV技术亮相慕尼黑上海光博会

慕尼黑上海光博会，堪称亚洲激光、光学、光电行业的年度盛会。自 2006 年首次在上海举办以来 ，其规模与影响力与日俱增，已然成为全球光电行业的重要交流平台。 慕尼黑上海光博会将于2025年3月20-22日在上海新国际博览中心（上海市浦东新区龙阳路2345号）举办，届时鹏城半导体将携前沿薄膜沉积设备及技术解决方案在E4馆4631亮相。基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术，用于高质量的薄膜制备。例如，用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备，将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。展品涵盖微纳光学、声学、医疗领域等热门应用领域，本次慕尼黑上海光博会给大家带来前沿技术及产品亮相，诚邀各位新老客户拨冗莅临展位洽谈交流！