磁控溅射镀膜仪的定义和作用
磁控溅射镀膜仪(PVD镀膜设备)是一种先进的表面处理设备,它具有高效的特点。通过利用磁场控制离子束的运动轨迹,实现对材料表面的溅射附着,从而获得高质量的薄膜涂层。磁控溅射镀膜仪的主要作用是在不同材料表面形成均匀、致密且具有良好附着力的薄膜层,以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。同时,它也可以用于改变材料的光学性能、电学性能和导热性能等,满足不同领域的需求。
磁控溅射镀膜仪(PVD镀膜设备)是一种先进的表面处理设备,它具有高效的特点。通过利用磁场控制离子束的运动轨迹,实现对材料表面的溅射附着,从而获得高质量的薄膜涂层。磁控溅射镀膜仪的主要作用是在不同材料表面形成均匀、致密且具有良好附着力的薄膜层,以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。同时,它也可以用于改变材料的光学性能、电学性能和导热性能等,满足不同领域的需求。

设备制造商-鹏城半导体技术(深圳)有限公司
新闻中心
随着半导体行业的飞速发展,尤其在芯片互联工艺领域,贯穿玻璃通孔(TGV)技术日益成为核心增长动力。预计在不久的将来,该技术将在全球及中国市场迎来前所未有的增长机遇。据最新市场研究数据显示,中国已经成为全球最大的TGV技术应用市场。
在现代医疗影像技术的持续演进中,磁控溅射技术已成为薄膜制备领域的核心工艺,广泛应用于医疗影像关键器件的制造过程。
鹏城半导体磁控溅射技术实现新突破,助力高端真空镀膜设备国产化
深圳,——在半导体先进封装与微纳制造领域持续深耕的鹏城半导体技术(深圳)有限公司(以下简称"鹏城半导体")近日宣布,其自主研发的高真空磁控溅射镀膜设备在TGV(玻璃通孔)镀膜工艺上取得重大技术突破,成功实现深径比大于10:1的高密度通孔镀膜,为国产真空镀膜设备在三维集成领域的发展注入新动力。
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)是一种在真空环境下,通过物理手段将靶材转化为气态原子、分子或离子,并使其在基体表面沉积形成薄膜的先进表面工程技术。自20世纪初发展至今,PVD技术因其环保、成本可控、耗材少、膜层致密均匀、膜基结合力强等优势,已成为现代增材制造与功能涂层领域的重要技术。
PVD可按需制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、压电、磁性等特性的功能薄膜,广泛应用于机械、电子、建筑、医疗等多个行业。
近日,TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)技术在材料加工与微纳制造领域取得显著进展,引发半导体、先进封装及新兴电子器件行业的高度关注。凭借其优异的电学性能、高频特性及三维集成能力,TGV正成为下一代高密度互连关键技术之一。
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