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化学气相沉积系统 PECVD

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太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）

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化学气相沉积系统 PECVD

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PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

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等离子体增强化学气相沉积 PECVD

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功能性薄膜真空沉积装置

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