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真空高温CVD炉
真空高温CVD 炉采用高温化学气相沉积的方法,在工件表面沉积各种薄膜,在半导体工业中应用非常广泛,包括沉积大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料,例如:碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。
cvd
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