LOGO
PRODUCTS CENTER

低压化学气相沉积

关键词:

产品 新闻

小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备 HITSemi-LPCVD-150


小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备在低压高温的条件下,通过化学反应气相沉积的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。

< 1 > 前往