小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备 HITSemi-HFCVD-X

小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备，主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科学研究。可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科学研究。

所属分类：

PVD/CVD 科学仪器

服务支持：

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产品描述

小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备，主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科学研究。
可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科学研究。
可以研发金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
可用于研发防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
可用于太阳能薄膜电池的研发。

主要特点
热丝不塌腰（解决了热丝长时间加热塌腰问题）。

可单面镀膜也可双面镀膜。

设备安全性设计，电力系统的检测与保护、设置真空检测与报警保护功能、设置水压检测与报警保护装置、冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护。

技术参数

产品型号	HITSemi-HFCVD-X
基片尺寸	圆形：最大φ550mm。矩形：最大1200mm x 550mm
热丝电源功率	1KW～300KW可调
腔体材质	304/316（选配）不锈钢，电解抛光
真空室	双层水冷结构，立式D形、前后开门
真空系统	机械泵
极限真空	5×10^-1Pa
热丝材料	钽丝或钨丝
热丝温度	1800℃～2500℃ 可调
工艺电源	直流电源
基片台	可旋转0~3转/小时、可水冷、可加偏压（选配）、由调速电机控制，可实现自动升降，（热丝与衬底间距在5mm～100mm范围内可调），要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm
控制形式	半自动/全自动
工艺气体（可定制）	H₂（5000sccm，浓度100%） CH₄（200sccm，浓度100%） B₂H₆（50sccm，H₂浓度99%） Ar（1000sccm，浓度100%）
恒温制冷水箱	可选配
空气压缩机	可选配
注：不含尾气处理系统

设备工作条件

供电	三相五线制，AC 380V，50Hz；接地电阻≤1Ω
功率	根据设备规模配置，峰值功率（50KW~300KW）
冷却水	≤100L/min
水压	0.1MPa~0.15MPa
水温	18℃～25℃
气动部件供气压力	0.5MPa～0.7MPa
质量流量控制器供气压力	0.05MPa～0.2MPa
工作环境温度	10℃～40℃
工作环境湿度	≤50%

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