PVD技术在半导体器件中的应用

分类：行业动态

发布时间：2024-07-04

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在快速发展的半导体技术领域，物理气相沉积（PVD）是实现薄膜沉积工艺精度和效率的关键工具。让我们一起来了解PVD技术在半导体行业中的先进应用。物理气相沉积涉及在半导体衬底上沉积薄膜，利用诸如溅射或蒸发等物理过程。PVD的多功能性和可控性使其成为半导体制造中的宝贵工具，可以创建复杂和高性能的设备。

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