鹏城半导体诚邀请您参观第24届CIOE中国光博会

分类:公司新闻
发布时间:2022-08-29
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9月7日-9月9日,第24届中国国际光电博览会将在深圳国际会展中心举办。 鹏城半导体将携热丝CVD金刚石制备设备、分子束外延薄膜生长设备(MBE)、高真空磁控溅射仪、多功能磁控溅射仪、高真空电子束蒸发镀膜机、高真空电阻热蒸发镀膜机及化学气相沉积(CVD)设备(其中包括LPCVD设备、MOCVD设备、PECVD设备等)等解决方案品参加此次展会,在此诚挚邀请业界朋友莅临至格展位,共话前沿技术,展望半导体未来。
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“中国材料大会”是中国材料研究学会的学术年会,是重要的系列品牌会议之一,是中国新材料界学术水平最高、涉及领域最广、前沿动态最新的超万人学术大会,是面向国家重大需求、推动新材料前沿重大突破的高水平品牌大会。 为推动经济社会高质量发展,加快建设科技强国,实现高水平科技自立自强,拟于2024年7月8-11日在广东省广州市举办中国材料大会2024,同期召开第二届世界材料大会。会议涵盖能源材料、环境材料、先进结构材料、功能材料、材料设计制备与评价等5大类主题;同时开设一批特色论坛,包括青年论坛、特色新材料论坛、材料教育论坛、材料期刊论坛等。除此之外,还同期举行国际新材料科研仪器与设备展览会等。
2024年,全球PVD真空镀膜设备行业的总规模约为22亿美元,而且预计到2024年,这一数字将会翻倍,达到47亿美元。PVD真空镀膜技术由非金属物质以真空温度和带电离子碰撞技术,形成厚膜,具有聚合度高、粘着力强、透明度高及耐腐蚀性好等优点。
真空镀膜是表面处理技术的一项分支,是指为了减少杂质的干扰,在高度真空环境下,通过物理或化学手段,将金属、非金属或化合物材料(膜材)转换成气态或等离子态,并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质(简称基材、基板或基片)表面形成薄膜的过程。
化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备,满足客户多种制造工艺需求。
磁控溅射技术属于PVD(物理气相沉积)技术的一种,是制备薄膜材料的重要方法之一。
CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。 从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。
金刚石作为超宽带隙半导体材料,具有高载流子迁移率、高热导率、高击穿电场、高载流子饱和速率和低介电常数等优异物理特性,被认为是制备下一代高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件的“终极半导体”。
真空镀膜机应用领域很广泛,各行各业都有用到,光学领域,汽车装饰零配件,电子,陶瓷等等,用在不同的行业,真空镀膜机名字不一样,下面详细和大家划分一下类目,希望能帮助到大家:
金刚石作为材料之王,其优异性质不断被发掘,从传统的超硬性质到超宽禁带半导体,工业跨度范围极大。中国在高精尖领域,卡脖子技术究竟如何解决?金刚石在解决卡脖子工程中究竟充当着什么角色?在高端装备、超精密加工领域,金刚石材料不可或缺!半导体行业,金刚石不仅仅作为半导体材料,在半导体封装散热、激光应用、抛光等超精密加工领域同样至关重要!
所谓真空镀膜机工艺在真空环境下,利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子,沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层,达到装饰、保护、防污、防潮、延长物体寿命等作用。目前,真空镀的方式有许多种,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等。

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